隨著美國政府聯手其他國家收緊出口管制政策，中國企業進口光刻機等半導體設備正面臨越來越大的困難。

當地時間9月5日，美國商務部下屬的工業與安全局（BIS）發布公告，出于“國家安全和外交政策”的考慮，更新量子計算、半導體制造和其他先進技術的管制政策清單，共計133頁，這進一步加強了美國對華量子計算、半導體制造等科技出口限制，涉及量子計算機及其相關設備、先進半導體設備必需的工具和設備、GAAFET（3nm及以內芯片制造工藝）技術以及增材制造項目等。

BIS表示，此份文件規則自2024年9月6日起生效。

美國BIS副局長艾倫·埃斯特維茲（Alan Estevez）表示，此次行動確保美國出口管制與快速發展的技術保持同步，也確保了美國與國際伙伴合作時，出口管制更加有效。

隨后，荷蘭政府也“對齊”美國出口管制政策，實施所有的光刻機出口審批。9月6日，荷蘭光刻機龍頭ASML（阿斯麥）對鈦媒體App展示一份聲明中回應：

“荷蘭政府于今日發布了有關浸潤式 DUV（深紫外）光刻設備出口的最新許可證要求。ASML認為，這項新要求將使出口許可證的發放方式更協調統一。根據更新后的許可證發放要求以及美國《出口管理條例》第734部分的第4.(a).(3)節的規定，ASML將需要向荷蘭政府而非美國政府申請 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i 型號浸潤式DUV光刻系統的出口許可證。之前，荷蘭政府已經開始對 TWINSCAN NXT:2000i 及后續推出的浸潤式光刻系統實施出口許可證要求。ASML EUV 光刻系統的銷售也受到出口許可證要求的限制。荷蘭政府公布的最新許可證要求將于 2024 年 9 月 7 日生效。由于這是一項流程性變更，ASML預計該公告不會對我們 2024 年的業績預期或 2022 年 11 月投資者日上公布的公司長期前景產生重大影響。”

換句話說，未來，如果由美國政府和荷蘭政府共同審批的話，ASML的先進EUV（極紫外）、部分DUV光刻機設備都不太可能向中國銷售了。

針對上述消息，中國外交部發言人毛寧9月6日表示，中方一貫反對美國將經貿科技問題政治化、武器化。我們認為，對正常的技術合作和經貿往來人為地設置障礙，違反市場經濟原則，擾亂全球產供鏈穩定，不符合任何一方的利益。

9月8日，中國商務部新聞發言人就此表示，中方注意到相關情況。近來，中荷雙方就半導體出口管制問題開展了多層級、多頻次的溝通磋商。荷方在2023年半導體出口管制措施的基礎上，進一步擴大對光刻機的管制范圍，中方對此表示不滿。近年來，美國為維護自身全球霸權，不斷泛化國家安全概念，脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施，嚴重威脅全球半導體產業鏈供應鏈穩定，嚴重損害相關國家和企業正當權益，中方對此堅決反對。荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發，尊重市場原則和契約精神，避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展，不濫用出口管制措施，切實維護中荷企業和雙方共同利益，維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定。

再加碼！美國政府不僅更新管制新規，還讓荷蘭“對齊”出口限制

原本預期在10月美國BIS更新的 AI 半導體出口管制規定，突然提前一個多月快速落地實施。

9月5日，美國商務部BIS更新出口管制規定，加緊對量子計算和半導體制造設備等關鍵技術的出口管制。美國商務部表示，該部正在全球范圍內對量子計算機和制造先進半導體設備所需的機器等特定類型的產品實施出口限制，但是對日本等采取類似措施的國家例外。

BIS在“商務管制清單”文件中增加和修訂了出口管制物項的分類編號 (ECCNs)，對半導體制造設備、量子計算機技術及其相關設備、增材制造設備、GAAFET技術、量子計算特定材料和電子組件、以及軟件和特定半導體制造與量子計算設備開發的技術，相關物項均進行全球范圍內的出口管制。

根據文件，涉及物項包括2B910（增材制造設備），2D910（增材制造設備的“軟件”），3A901（電子組件），3A904（低溫冷卻系統）、3B001（半導體制造設備），3B903（掃描電子顯微鏡），3B904（低溫晶圓探測設備），3C907、3C908、3C909（特定材料），3D901、3D907（量子計算相關的“軟件”），3E901、3E905（量子計算和GAAFET技術的“技術”），4A906（量子計算機及相關組件），4D906（量子計算機相關組件的“軟件”）。4E906（量子計算機相關組件的“技術”），這些都會納入新的BIS審批獲準當中。

同時，BIS 還新增了 “國家安全” 和 “地區穩定” 兩項全球許可證要求，從美國出口這些物項到全球所有國家都需要向美國申請許可。具體來說，對參加了瓦森納出口管制協定國家，原則上允許出口，而對美國指定的 “國家安全” 相關國家或 “武器禁運國家”，例如中國，則是假定拒絕出口，對于其他國家，則是一事一議的原則。

進一步，BIS 為 “志同道合” 的國家提供了豁免，即 “許可證豁免的出口管制”(IEC) 機制，各國如果實施和美國等效的出口管制，滿足了 IEC 的要求，那么美國將豁免對這些國家的出口許可要求。目前，意大利、英國、澳大利亞、加拿大、日本、西班牙、法國和德國等8個國家的20個物項將有特別的許可豁免權。

值得注意的是BIS文件中提到關于GAAFET（全環柵晶體管）部分，這將影響國內 GPU/AI 芯片研發和量產。

事實上，GAAFET是一種先進半導體制造技術，用于制造更小、更高效的晶體管，目前大體可以制造4nm、3nm、2nm以及1nm芯片產品。當前涉及此技術的上中游產業鏈主要包括全球兩大晶圓代工龍頭（三星、臺積電），三大EDA龍頭（Synopsys新思科技、Cadence楷登科技、以及西門子EDA），這些公司均掌握此技術，而蘋果、英偉達等企業都正在量產基于GAAFET的芯片。而文件中指出，BIS正在對涉及GAAFET技術的某些項目實施出口控制，以保護國家安全和外交政策利益。

不僅更新了管制新規，同一時間，美國政府還讓荷蘭“對齊”出口限制。

9月6日，荷蘭政府發布有關浸潤式 DUV光刻設備出口的最新許可證要求，主要涉及荷蘭光刻機龍頭ASML的產品，預計該限令將于9月7日生效。

對此，荷蘭貿易部長雷內特·克萊弗（Reinette Klever)表示：“這一決定是為了我們的安全。我們認為，由于技術的進步，這些特定生產設備的出口存在更多的安全風險，尤其是在當前地緣政治環境的背景之下。”

此前，荷蘭首相肖夫（Dick Schoof）表示，荷蘭政府在決定進一步收緊ASML設備對華出口規則時，將考慮到該公司的經濟利益。

“我們正在進行談判，良好的談判，我們也在特別關注ASML的經濟利益，這些利益需要與其他風險進行權衡，而經濟利益是極其重要的”。肖夫補充說，“對荷蘭來說，ASML是一個極其重要的創新企業，在任何情況下都不應受到影響，因為這將損害ASML的全球地位”。

知情人士稱，肖夫領導的荷蘭政府很可能不會在ASML某些在華維修和提供備件的許可證于2024年底到期后為其續期，預計將涉及ASML的頂級DUV（深紫外）光刻機。對此肖夫不予置評。

實際上，在美國的壓力下，荷蘭政府從未允許ASML向中國客戶出口其最先進的EUV設備，并從2023年9月開始要求NXT:2000系列及更好的DUV設備需要出口許可。2023年10月，美國單方面開始限制ASML 1970i和1980i工具的出貨。

ASML已警告中國客戶，從2024年起不預期再交付這些設備。

據財新，金杜律師事務所合規業務部貿易法合伙人戴夢皓表示，美國新增的這批全球管制物項在之前幾輪對中國的管制中已經基本覆蓋到了，因此本次美國的新政策對中國產業的新影響不大。但是，這樣的新規利于美國未來進一步收緊出口管制，對日本和荷蘭等半導體材料和設備生產國施加更大壓力。

總結看，此次BIS文件主要涉及量子計算的全產業鏈體系，也就是美國政府希望全面限制中國發展量子計算技術，同時，通過與荷蘭、日本“對齊”出口管制方式，美國芯片產業鏈全面斷絕中國獲取海外先進制程芯片所需的設備、材料等。

一位EDA行業人士向鈦媒體App透露，目前EDA三巨頭已經限制國內設計企業的GAAFET IP和EDA軟件采購，因此，此輪管制對于國內EDA方面影響有限，但長期來看，中國企業很難再擁有研發先進制程芯片的EDA軟件。

“我們本來就對放寬半導體出口沒什么期待了。”上述人士稱。

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